GIVENCHY SKIN RESSOURCE Intense Hydra-Relief Mask

Die GIVENCHY SKIN RESSOURCE Intense Hydra-Relief Mask ist eine Hautpflege der besonderen Art. Dank der innovativen Formel und erlesener Inhaltsstoffe spendet die Maske nicht nur intensiv Feuchtigkeit. Sie schließt sie in der Haut ein und beugt dadurch effizient dem erneuten Austrocknen vor. Spannungsgefühle und Trockenheitsfältchen gehören damit trotz der schädlichen Einflüsse der Vergangenheit an. Die pflegende und versorgende Formel wirkt in den tieferen Schichten der Haut. Hierdurch erzielt sie einen aufpolsternden und glättenden Effekt, wirkt sich positiv auf die Versorgung der Haut aus und kreiert einen verjüngten und erfrischten Teint mit einem langen Halt. Hohe Verträglichkeit und natürliche, bewährte Wirkstoffe runden die Rezeptur ab.

GIVENCHY SKIN RESSOURCE Intense Hydra-Relief Mask - Hautpflege mit langem Halt

Die intensive Pflegemaske von GIVENCHY SKIN RESSOURCE dringt dank Auszügen aus Aloe-Moos, Pflanzenmoosen und Immortelle in tiefe Hautschichten ein, versorgt sie mit Feuchtigkeit und reguliert den Wasserhaushalt. Mit einem Halt von bis zu 72 Stunden überzeugt die Intense Hydra-Relief Mask - von der ersten Anwendung an. Denn die Hautpflege mit der frischen Gel-Textur erfrischt, entspannt und kreiert ein erholtes Gefühl innerhalb der ersten Minuten, das lange besteht und zur Wellness im Alltag beiträgt. Hierdurch erzeugt die Pflege spürbare und sichtbare Verbesserungen.

AQUA (WATER) • GLYCERIN • PROPANEDIOL • C9-12 ALKANE • POLYGLYCERIN-3 • ISOMALT • AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER • CARBOMER • PARFUM (FRAGRANCE) • PHYTOSTERYL/OCTYLDODECYL LAUROYL GLUTAMATE • CHLORPHENESIN • COCO-CAPRYLATE/CAPRATE • TOCOPHERYL ACETATE • ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER • XYLITOL • SODIUM HYDROXIDE • HYDROXYACETOPHENONE • SODIUM HYALURONATE • INOSITOL • PENTAERYTHRITYL TETRA-DI-T-BUTYL HYDROXYHYDROCINNAMATE • CAPRYLYL GLYCOL • HELICHRYSUM ITALICUM EXTRACT • CI 42090 (BLUE 1) • PHYTOL • TOCOPHEROL • KETOGLUTARIC ACID